一、 等离子体和设备的工作原理
等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。(1)原子团等自由基与物体表面的反应(2)电子与物体表面的作用(3)离子与物体表面的作用(4)紫外线与物体表面的反应
运用等离子体的特殊化学物理特性,等离子清洗设备的主要用途如下:
1. 去除灰尘和油污、去静电;
2. 提高表面浸润功能,形成活化表面;
3. 提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性;
4. 刻蚀物的处理作用.
等离子清洗的作用原理主要是:
(A)对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。
(B)激活键能,交联作用
等离子体中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物中大部分的键能在 0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。
(C)形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。
等离子体和设备的工作原理
等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。(1)原子团等自由基与物体表面的反应(2)电子与物体表面的作用(3)离子与物体表面的作用(4)紫外线与物体表面的反应
运用等离子体的特殊化学物理特性,等离子清洗设备的主要用途如下:
1. 去除灰尘和油污、去静电;
2. 提高表面浸润功能,形成活化表面;
3. 提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性;
4. 刻蚀物的处理作用.
等离子清洗的作用原理主要是:
(A)对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。
(B)激活键能,交联作用
等离子体中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物中大部分的键能在 0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。
(C)形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。
石英型真空等离子清洗机主要由石英真空腔体、高频等离子发生器、抽真空系统、充气系统、PLC自动控制系统等部分组成,采用电感耦合式工作原理,利用真空泵达到一定的真空值后,在电感的作用下,形成了活性很高的等离子体,由此产生的等离子体可以达到表面改性清洗处理的效果。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。石英腔体可保证等离子体在狭小的空间里,腔体温度不升高。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。
石英型真空等离子清洗机采用电感耦合式工作原理,在微波管、零件绝缘方面作用很突出,适用于高洁净度的敏感产品处理;广泛地被大中院校、科研机构、企业研发机构,实验室和企业小批量试产阶段采用。其产品主要应用在材料科学、高分子科学、生物医药材料学、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微术、牙科医疗等领域中的污染物清除、表面活化、粘合前处理、表面化学改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料,并对所处理的材料表面带来表面 超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
二、 设备主要功能特点
Ø 石英圆形真空腔体,腔体处理温度低,避免长时间等离子处理造成的腔体温度过高,确保对样品表面没有造成热影响。
Ø 原装进口电源:采用原装进口电源电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果,频率13.56MHZ,功率0-600W连续调节,自动阻抗匹配。
Ø 独有放电技术:特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体。
Ø 密封性卓越的真空腔体设计:军工级的高真空度真空腔体设计及制造工艺,并配置进口技术真空泵运行。
Ø 高精度气体流量监测系统,两种工艺气体配置(氩气、氧气),双路气流控制,,比例可调,采用高精度浮子流量计、美国世维洛克气体管路及阀件。
Ø 自主研发的低压(真空)等离子清洗机软件系统,性能稳定可靠,操作简单,便于维护,高效便捷。
Ø 强大的全面安全防护系统:温度安全防护功能,过载防护功能,短路断路报警防护功能,各种误操作保护功能。
Ø 优质产品部件:产品部件采用国内外顶尖优质品牌,确保设备性能优越。
Ø 数字计时单元:0~99.9小时选择范围时间显示,处理过程结束后自动终止
Ø 精密数控加工:进口精密CNC数控机床加工工艺,并经过进口三坐标测量仪进行质量监控。
Ø 适用形状复杂样品:清洗各种复杂形状的产品,包括内孔内壁,全方位均匀清洗。
Ø 处理全程无污染 ,等离子清洗机本身是很环保的设备,无产生任何污染,处理过
程也无产生任何污染。可以与原有生产流水线搭配,实现全自动在线生产,节约人力
成本。
三、 设备主要参数
型号 |
XT-SYPL10参数 |
射频功率 |
最大100W,可在0-100W间调节, |
射频 |
射频为13.56MHz |
等离子腔体 |
高纯石英腔体,内径7.9",长12.6",采用铝制折叠式法兰进行真空密封,法兰设有一个Ø60mm的观察窗口 |
真空泵功率 |
<500W |
极限真空度 |
50mtorr |
通入气体 |
可通入多种气体,如N2、Ar、Air、 H2、O2和混合气体等等(根据材料性质所定) |
角阀 |
超高真空40KF |
流量控制器 |
0-300mL/m |
PLC控制系统 |
PLC触摸屏控制,包括PLC |
陶瓷封装 |
高频陶瓷 |
机身尺寸 |
|
电源 |
220V/50Hz |
四、 设备应用领域:
石英型真空等离子处理设备广泛应用于:
1.等离子表面活化/清洗; 2.等离子处理后粘合;
3. 等离子蚀刻/活化; 4. 等离子去胶;
5. 等离子涂镀(亲水,疏水); 6. 增强邦定性;
7.等离子涂覆; 8.等离子灰化和表面改性等场合。
通过其处理,能够改善材料表面的浸润能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
等离子腔体气体反应作用,工艺配方参考:常用氧气+氩气
氧气(Oxygen,O2) |
清洗方式:物理+化学 |
氮气(Nitrogen,N2) |
清洗方式:物理+化学 |
二氧化碳(Carbon,CO2) |
清洗方式:物理+化学 |
氩气(Argon,Ar) |
清洗方式:物理 |
压缩空气(Compressed Air,CDA) |
清洗方式:物理+化学 |
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